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고순도 알루미늄 기판용 반도체 등급 클린 부품 황산 양극 산화 라인

고순도 알루미늄 기판용 반도체 등급 클린 부품 황산 양극 산화 라인

브랜드 이름: MEL-AL
모델 번호: MEL-AL-1018
MOQ: 1세트
가격: Customized Price
포장 세부사항: 표준 포장
지불 조건: 신용장, 티/티
상세 정보
원래 장소:
중국 포산
제어력:
AC220V 50Hz
강조하다:

반도체 등급 황산 양극 산화 라인

,

고순도 알루미늄 기판 양극 산화 라인

,

클린 부품 양극 산화 생산 라인

제품 설명
고순도 알루미늄 기판용 반도체 등급 클린 부품 황산 양극 산화 라인
개요

이 완전 자동 클린 타입 황산 양극 산화 라인은 고순도 알루미늄 반도체 부품 전용으로 설계되었습니다. 금속염 염색 오염 없이 균일한 8-15μm의 자연 투명 산화 피막을 생성합니다. 이 라인은 엄격한 반도체 청결도 및 탈기 요구 사항을 충족하기 위해 온수 실링 또는 중온 니켈 프리 실링을 지원합니다.

기술 사양
항목 매개변수
적용 공작물 반도체 클린 부품, 고순도 알루미늄 기판
양극 산화 유형 저오염 황산 장식 양극 산화
산화 피막 두께 8-15μm
표면 외관 자연 투명 마감 (금속염 착색 없음, 이온 오염 위험 제로)
실링 옵션 온수 실링 / 중온 니켈 프리 실링
작동 모드 완전 자동 클린 양극 산화 라인
청결도 제어 저이온 욕조 제형, 전용 클린 순환 및 여과 시스템
주요 제한 사항 중금속 오염 방지를 위해 염색 공정 금지
공정 흐름
  1. 탈지 (저계면활성제 클린 탈지)
  2. 다단계 순수 린싱
  3. 순한 스머트 제거 처리
  4. 고순도 황산 양극 산화
  5. 연속 초순수 캐스케이드 린싱
  6. 실링: 온수 실링 / 중온 니켈 프리 실링
  7. 최종 순수 린싱
  8. 제어된 저온 건조
핵심 장점
  • 완전 자동 실행 모드는 배치 간 8-15μm 내에서 일관된 피막 두께를 보장합니다.
  • 금속염 염색을 제거하여 반도체 성능에 영향을 미치는 이온 오염을 방지합니다.
  • 니켈 프리 실링 솔루션을 지원하여 반도체 산업의 환경 및 탈기 표준을 준수합니다.
  • 고정밀 연속 여과 및 초순수 공급 장치를 갖추어 욕조 청결도를 유지합니다.
  • 엄격하게 제어된 린싱 캐스케이드는 잔류 산 및 외부 입자 이월을 최소화합니다.
지원 장비
  • 전처리 탱크 그룹
  • 고순도 황산 양극 산화 탱크
  • 다단계 UPW 린싱 시스템
  • 실링 탱크 (온수 / 니켈 프리 중온 실링)
  • DC 양극 산화 정류기
  • 고정밀 순환 필터 시스템
  • 클린 저온 건조 오븐
  • 배기 및 폐수 처리 장치
  • PLC 자동 갠트리 크레인 및 중앙 제어 시스템
자주 묻는 질문
Q1: 반도체 알루미늄 부품에 금속염 착색이 금지되는 이유는 무엇인가요?

착색제에서 나온 금속 이온이 산화 피막 내부에 남아 이온 이동, 오염 및 반도체 어셈블리의 신뢰성 위험을 유발할 수 있습니다. 자연 투명 양극 산화가 채택됩니다.

Q2: 니켈 프리 실링과 기존 니켈 함유 실링의 차이점은 무엇인가요?

중온 니켈 프리 실링은 니켈 이온 잔류물을 피합니다. 이는 저탈기 및 중금속 프리 표면에 대한 반도체 요구 사항을 충족합니다.

Q3: 이 라인은 소량 배치 시험 생산에 사용할 수 있나요?

주요 구성은 대량 생산을 위한 완전 자동이며, 샘플 주문을 위해 반자동/수동 클린 모듈을 옵션으로 업그레이드할 수 있습니다.

맞춤형 레이아웃 설계 및 견적은 문의하십시오.