| 브랜드 이름: | MEL-AL |
| 모델 번호: | MEL-AL-1018 |
| MOQ: | 1세트 |
| 가격: | Customized Price |
| 포장 세부사항: | 표준 포장 |
| 지불 조건: | 신용장, 티/티 |
이 완전 자동 클린 타입 황산 양극 산화 라인은 고순도 알루미늄 반도체 부품 전용으로 설계되었습니다. 금속염 염색 오염 없이 균일한 8-15μm의 자연 투명 산화 피막을 생성합니다. 이 라인은 엄격한 반도체 청결도 및 탈기 요구 사항을 충족하기 위해 온수 실링 또는 중온 니켈 프리 실링을 지원합니다.
| 항목 | 매개변수 |
|---|---|
| 적용 공작물 | 반도체 클린 부품, 고순도 알루미늄 기판 |
| 양극 산화 유형 | 저오염 황산 장식 양극 산화 |
| 산화 피막 두께 | 8-15μm |
| 표면 외관 | 자연 투명 마감 (금속염 착색 없음, 이온 오염 위험 제로) |
| 실링 옵션 | 온수 실링 / 중온 니켈 프리 실링 |
| 작동 모드 | 완전 자동 클린 양극 산화 라인 |
| 청결도 제어 | 저이온 욕조 제형, 전용 클린 순환 및 여과 시스템 |
| 주요 제한 사항 | 중금속 오염 방지를 위해 염색 공정 금지 |
착색제에서 나온 금속 이온이 산화 피막 내부에 남아 이온 이동, 오염 및 반도체 어셈블리의 신뢰성 위험을 유발할 수 있습니다. 자연 투명 양극 산화가 채택됩니다.
중온 니켈 프리 실링은 니켈 이온 잔류물을 피합니다. 이는 저탈기 및 중금속 프리 표면에 대한 반도체 요구 사항을 충족합니다.
주요 구성은 대량 생산을 위한 완전 자동이며, 샘플 주문을 위해 반자동/수동 클린 모듈을 옵션으로 업그레이드할 수 있습니다.