| 브랜드 이름: | MEI-AL |
| 모델 번호: | APL-900T |
| MOQ: | 1SET |
| 가격: | RMB9,000,000-12,000,000/set |
| 포장 세부사항: | 수출 입석자 포장 |
| 지불 조건: | T/T |
양극 산화 생산 라인은 전류 밀도, 온도, 시간 및 기타 중요 요소를 포함한 정밀한 장비 제어와 엄격한 공정 매개변수 제어가 필요합니다. 이러한 핵심 공정 매개변수를 숙달해야만 고품질의 양극 산화 제품을 생산할 수 있습니다.
양극 산화는 항공 우주, 자동차 및 전자 산업의 부품 표면 처리에 널리 사용됩니다. 제품의 성능을 향상시킬 뿐만 아니라 외관을 풍부하게 합니다.
기술의 지속적인 발전과 함께 양극 산화 기술도 끊임없이 최적화되고 업그레이드되어 다양한 산업에 더 높은 품질의 표면 처리 솔루션을 제공하고 있습니다.
| # | Parameter | Specification |
|---|---|---|
| 1 | Alloy | Aluminum 6061 to 6063 or others |
| 2 | Anodizing film thickness | 10–12 µm |
| 3 | Average coverage area | 350 m²/T (ton) |
| 4 | Max aluminium profile length | 6500 mm |
| 5 | Extrusion ratio | 2.5 kg/m² |
| 6 | Working hour/month | 300 d/m × 20 h/d = 600 h/m |
| 7 | Racking system | Two fixtures per rack |
| 8 | Racking operation | Manual |
| 9 | Equipment usage rate | 0.9 |
| 10 | Power supply | AC 3-phase 380 V 50 Hz |
| 11 | Control power | AC 220 V 50 Hz |
| 12 | Water supply | 2 kg/cm²·G |
| 13 | Hot steam | 6 kg/cm²·G |
| 14 | Compressor air | 6 kg/cm²·G |
| # | Process | Chemical Parameters | Tanks |
|---|---|---|---|
| 1 | Degreasing | Free sulfuric acid 180 ± 30 g/L | 1 Tank |
| 2 | Alkaline Etching | Free alkali 40–60 g/L, Al³⁺ 30–120 g/L | 2 Tanks |
| 3 | Neutralization | Free sulfuric acid 180 ± 20 g/L | 1 Tank |
| 4 | Anodizing | Free sulfuric acid 140–180 g/L, Al³⁺ ≤ 20 g/L | 4 Tanks |
| 5 | Colouring | Stannous sulfate 3–8 g/L, free sulfuric acid 15–25 g/L, pH 0.8–1.2 | 2 Tanks |
| 6 | Medium Temperature Sealing | pH 5–6.5, nickel ion 0.8–1.3 g/L, fluoride ion 0.3–0.7 g/L | 3 Tanks |
| # | Code | Description |
|---|---|---|
| 1 | De | Degreasing |
| 2 | Rs | Rinsing |
| 3 | HW Rs | Hot Water Rinsing |
| 4 | AE | Alkaline Etching |
| 5 | Ne | Neutralization |
| 6 | An | Anodizing |
| 7 | Cl | Coloring |
| 8 | Sl | Sealing |
| 9 | MU | Material Unloading |
| 10 | Pc | Packing |
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